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204 第204章 喜报频传芯片材料遥遥领先（第4页）

“还有一点！”

在陈星内心掀起骇浪时，杨烈继续说道：“韩铭还改良了提纯工艺，这批次的半导体硅片纯净度达到了15n！”

“嘶！”

15n？？？

陈星不由得倒吸一口凉气，这已经完全出乎他预料了。

15n的纯度，如果翻译成百分比就是99.9999999999999%，足足15个9，要知道，每个9的出现都代表里面的杂质进一步减少，而目前市面上主流的硅片，它们纯度只能达到11n，也就是11个9。

在沉思过后，陈星看向杨烈道：“16寸半导体硅片向莞城那边供应了吗？”

“还没有。”

杨烈刚说完，又补充道：“刚刚做好就给你微信了，我们只提供了15n的12寸半导体硅片。”

闻言，陈星点了点头，随即叮嘱道：“16寸硅片的事情不能泄露出去，目前还是以12寸硅片生产为主，现在还不是摊牌的时候，知道的人越多，越容易走漏风声。”

“我明白了。”

杨烈点了点头。

在叮嘱完杨烈韩铭，以及龙兴硅业的其他人才后，陈星便来到了隔壁不远处的龙兴化工厂。

化工厂不同于硅业工厂，这里弥漫着刺鼻的味道。

破解光刻胶，以及配套试剂应有的成分，这对于科研工程师来说只能不断尝试。

早早在门口等待的朱明月见陈星到来，立马递上过滤口罩道：“总裁快请进。”

陈星接过口罩戴上，便跟随他走进化工厂。

化工厂真不比硅业工厂，刺鼻的味道闻久了都感觉会折寿，全是化学试剂的刺鼻味。

在穿过调配区，朱明月带陈星来到了他的办公室，关上房门并打开过滤抽风机。

不一会。

两人都摘下了口罩。

朱明月从办公室保险箱，拿出数瓶约摸55o毫升罐装可乐大小的密封罐子道：

“1号arF光刻胶，曝光波长：193nmImm，技术节点及应用：n4onm-7nmpTdLs，工艺能力cd：o.o63um，工艺能力Thk：o.。”

“翻译一下。”

虽然陈星是重生者，又带有国产之光系统，但这并不代表他是万能的，光刻胶他可没学过。

朱明月闻言，淡淡一笑解释道：“曝光波长1V光刻机的曝光，技术节点及应用n4o纳米-7纳米pTdLs，可用于4o纳米到7纳米芯片的生产。”

“工艺能力cd：o.o63um是分辨率，而工艺能力Thk：o.则是涂抹厚度。”

陈星理解能力很强，在听了讲解以后，立马抓住重点道：“也就是说，这是一款足以支持7纳米芯片生产使用的光刻胶？”

“是的。”

朱明月点了点头，继续抛出这款光刻胶的底细道：“因为考虑到我们没有euV光源，所以这款光刻胶曝光波长设计在193。”

“如果要用一句话概括，那就是这款光刻胶是我专门为多重曝光技术而设计的产品。”

（本章完）

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